真空气氛管式炉整体采用一体化机箱设计，双层壳体，中空风冷系统；冷轧钢板壳体喷涂耐高温漆面；1800型氧化铝纤维炉膛；加热元件采用1800型硅钼棒；控制系统采用50段智能程控仪表；全程限流式功率调整器；大容量高品质变压器助推大电流输出；不锈钢KF法兰双级密封；配置高真空针型阀、真空表、进出气接头；适用于真空环境、气氛保护环境下的样品高温处理。

1400度单温区管式炉采用一体式结构，炉膛采用氧化铝纤维材料制成，等直径硅碳棒加热，耐高温刚玉炉管，两端配置不锈钢真空法兰；法兰采用KF快接法兰，进出料更方便；智能程控控温仪表控温精度高；双层机壳设计，中空风冷系统确保外壳温度不高.

双温区转动管式炉又称为旋转式管式真空气氛炉、旋转式管式气氛炉等，是高校、科研院所、工矿企业做电池正负极材料烧结、催化剂氢气还原、粉体和颗粒料翻转烧结的理想产品

单温区滑杆式PECVD系统由滑竿式真空管式炉、石英真空室、射频电源、供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。单温区滑竿式PECVD系统相对于CVD系统增加了等离子发生器

CVD是化学气相沉积的英文简写，本公司生产的单温区CVD管式炉系统是利用管式炉加热，把构成固态沉积物的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入炉管内，在炉管内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。